HIFU Ultraskin II

HIFU Ultraskin II firmy Wontech to system wykorzystujący najnowsze rozwiązania w technologii skupionych fal ultradźwiękowych o dużym natężeniu HIFU. Ultraskin II wykorzystując technologię HIFU (High Intensity Focused Ultrasound) stymuluje warstwę SMAS oraz głębsze partie skóry bez naruszania ciągłości naskórka, czego wynikiem jest natychmiastowy i długo utrzymujący się efekt liftingu. Dodatkowa stymulacja warstw skóry właściwej pozwala na jej głęboką przebudowę.

Zastosowanie przetworników nowej generacji w systemach Ultraskin II pozwala na znacznie większe skoncentrowanie fal ultradźwiękowych w stosunku do konwencjonalnych systemów HIFU, dzięki czemu energia termiczna ogniskowana jest na mniejszym obszarze. Przekłada się to na znacznie mniejszą bolesność zabiegu, ogólną poprawę rezultatów terapii i zwiększony profil bezpieczeństwa. Dzięki większej koncentracji fal ultradźwiękowych oraz dużej dowolności w regulowaniu gęstości i długości impulsów, lekarz może wykonywać zabiegi z różną intensywnością (wykonując nawet do 70% więcej punktów koagulacji przypadających na 1 impuls) oraz bardzo dużą precyzją w zależności od obszaru poddanemu terapii.

Ultraskin II jako jedyny system na rynku pozwala na wykorzystanie aplikatora UltraDeep - 13 mm, który umożliwia penetrację głębokich warstw tkanki podskórnej gwarantując efektywną lipolizę miejscowych złogów tkanki tłuszczowej.

Zastosowanie Ultraskin II:

• Redukcja zmarszczek na czole, w okolicach oczu, ust oraz na szyi;
• Uniesienie brwi;
• Konturowanie twarzy;
• Redukcja podwójnego podbródka;
• Poprawa linii żuchwy;
• Odmłodzenie dekoltu;
• Napięcie i ujędrnienie piersi, ramion, okolicy pach, brzucha, pleców, pośladków, ud, kolan i łydek;
• Lifting wiotkiej skóry po dużej utracie masy ciała i po ciąży;
• Redukcja tkanki tłuszczowej.